반도체 등급 흑연

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반도체 등급 흑연
정보
반도체급 흑연
전문 흑연 재료 소스 제조업체인 Jincheng Graphite는 웨이퍼 처리, 진공 장비 및 고온 공정을 위해 특별히 설계된 고순도 및 안정성이 높은 반도체 등급 흑연을 제공합니다. 높은 열전도도, 강한 화학적 안정성, 우수한 기계적 강도 등 핵심 장점을 갖고 있어 반도체 제조 분야에서 널리 사용되고 있다.
핵심강점
초순수 흑연 기판: 탄소 함량이 99.99% 이상입니다. 플라즈마 처리를 통해 불순물을 제거하여 반도체 제조 시 높은 청정도에 대한 엄격한 요구사항을 충족하고 웨이퍼 표면 오염을 방지합니다.
뛰어난 열전도율: 최대 200-300W/m·K의 열전도율. 열에너지를 빠르고 균일하게 전달하여 고온 공정 중 웨이퍼의 균일한 열 분포를 보장하고 수율 손실을 줄입니다.
제품 분류
웨이퍼 흑연 캐리어
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설명

반도체급 흑연

전문 흑연 재료 소스 제조업체인 Jincheng Graphite는 웨이퍼 처리, 진공 장비 및 고온 공정을 위해 특별히 설계된 고순도 및 안정성이 높은 반도체 등급 흑연을 제공합니다. 높은 열전도도, 강한 화학적 안정성, 우수한 기계적 강도 등 핵심 장점을 갖고 있어 반도체 제조 분야에서 널리 사용되고 있다.

 

핵심강점

 

초순수 흑연 기판

탄소 함량 99.99% 이상. 플라즈마 처리를 통해 불순물을 제거하여 반도체 제조 시 높은 청정도에 대한 엄격한 요구사항을 충족하고 웨이퍼 표면 오염을 방지합니다.

뛰어난 열전도율

열 전도성은 최대 200-300W/m·K입니다. 열에너지를 빠르고 균일하게 전달하여 고온 공정 중 웨이퍼의 균일한 열 분포를 보장하고 수율 손실을 줄입니다.

극한 환경에 대한 내성

1500도 고온과 강산 및 알칼리 부식에 내성이 있습니다. 반도체 웨이퍼 어닐링, 증착, 에칭 등 복잡한 공정에 적합하여 장비의 수명을 연장시킵니다.

 

응용 시나리오

 

웨이퍼 고온 처리 장비

가열 챔버의 소재로 극심한 온도 변동을 견딜 수 있어 어닐링, 소결 등의 공정에서 웨이퍼의 열적 안정성을 보장합니다.

진공열처리 시스템

흑연의 낮은 마찰 특성을 결합하여 고온 가열을 위한 고진공 환경에 적합하며 가스 흡착으로 인한 오염을 줄입니다.

반도체 패키징 핫 프레싱 장비

높은 열전도율을 통해 빠르고 균일한 가열을 실현하여 포장 공정의 효율성을 높이고 에너지 소비 비용을 절감합니다.

 

기술적인 매개변수

 

탄소 함량 99.99% 이상
열전도율 200 - 300 W/m·K(테스트 조건: 25도)
압축강도 40 MPa 이상
작동 온도 범위 -200도 ~ 1500도
표면 처리 플라즈마 연마/코팅(맞춤형)

 

진청 흑연 품질 보증

Jincheng Graphite는 20년간의 흑연 재료 연구 경험을 바탕으로 특허 받은 플라즈마 처리 기술과 나노 복합 공정을 채택하여 극한 조건에서 반도체급 흑연의 안정성을 보장합니다. ISO 9001 품질 시스템 및 AS9100 항공우주 표준에 의해 인증되었으며 높은 청결도 및 높은 신뢰성 시나리오 요구 사항을 충족합니다.

협력 약속

Jincheng Graphite는 맞춤형 반도체급 흑연 솔루션을 제공하여 소규모 배치 시험 생산과 대규모 대량 생산을 모두 지원하여 짧은 납품 주기와 제어 가능한 비용을 보장합니다. 글로벌 물류 네트워크와 현지 서비스 팀을 통해 고객에게 효율적이고 안정적인 통합 흑연 재료 서비스를 제공하여 반도체 제조 프로세스를 업그레이드하는 데 도움을 줍니다.

 

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