웨이퍼 제조 흑연

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정보
웨이퍼 흑연 캐리어
Jincheng Graphite는 웨이퍼 흑연 캐리어 전문 제조업체로서 고순도 및 안정성이 높은-웨이퍼 흑연 캐리어를 제공합니다. 이는 우수한 열 균일성, 내식성 및 긴 수명을 특징으로 하는 반도체 제조의 고온 공정용으로 특별히 설계되었습니다.- 웨이퍼 가공, 리소그래피 등 정밀 분야에서 널리 사용됩니다.
핵심강점
나노-규모 흑연 기판: 고순도-흑연(탄소 함량 99.99% 이상) 및 금속 복합 공정을 활용하여 열전도율이 최대 300W/m·K에 달하여 웨이퍼 표면의 균일한 온도를 보장하고 열 스트레스로 인한 뒤틀림 위험을 줄입니다.
진공 환경 적합성: -200도 ~ 3000도의 극한 온도 범위를 견딜 수 있어 리소그래피, 에칭 등의 진공 공정에 적합하고 내식성이 우수하며 수소, 질소 등 화학 가스와 호환 가능합니다.
제품 분류
웨이퍼 흑연 캐리어
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설명

웨이퍼 흑연 캐리어

Jincheng Graphite는 웨이퍼 흑연 캐리어 전문 제조업체로서 고순도 및 안정성이 높은-웨이퍼 흑연 캐리어를 제공합니다. 이는 우수한 열 균일성, 내식성 및 긴 수명을 특징으로 하는 반도체 제조의 고온 공정용으로 특별히 설계되었습니다.- 웨이퍼 가공, 리소그래피 등 정밀 분야에서 널리 사용됩니다.

 

핵심강점

 

나노-규모 흑연 기판

고순도-흑연(탄소 함량 99.99% 이상) 및 금속 복합 공정을 활용하여 열전도율이 최대 300W/m·K에 달하여 웨이퍼 표면의 온도를 균일하게 보장하고 열 스트레스로 인한 뒤틀림 위험을 줄입니다.

진공 환경 호환성

-200도 ~ 3000도의 극한 온도 범위를 견디며 리소그래피, 에칭 등의 진공 공정에 적합하며 내식성이 뛰어나 수소, 질소 등 화학 가스와 호환됩니다.

맞춤형 적응성

다양한 웨이퍼 크기(예: 12인치 및 8인치)와 특수 표면 처리 공정을 지원하여 다양한 반도체 제조 시나리오에 대한 정확한 요구 사항을 충족합니다.

 

응용 시나리오

 

웨이퍼 리소그래피 공정

포토레지스트를 도포하는 동안 흑연 캐리어는 안정적인 열 분포 환경을 제공하여 온도 차이로 인한 웨이퍼 변형 문제를 줄입니다.

고온-에칭 장비

플라즈마 에칭 중에 캐리어의 높은 열 전도성은 열을 빠르게 분산시켜 고온으로 인한 손상으로부터 웨이퍼 표면을 보호할 수 있습니다.

진공증착 시스템

CVD, PVD 및 기타 공정과 호환되어 고온 증착 중에 웨이퍼의 평탄도를 유지하고{0}}수율을 향상시킵니다.

 

기술 사양

 

열전도율 250 - 400 W/m·K(맞춤설정 가능)
작동 온도 범위 -200도 ~ 3000도
호환 가능한 가스 수소, 질소, 아르곤 등(반도체 공정가스)
표면 처리 플라즈마 연마/코팅(옵션)

 

진청 흑연 기술 보증

20년간의 흑연 재료 연구 및 개발 경험을 바탕으로 Jincheng Graphite는 특허받은 진공 복합 기술과 나노미터{1}}급 흑연 충전 기술을 채택하여 극한 조건에서 캐리어의 장기적인- 안정성을 보장합니다. 이 제품은 ISO 9001 품질 시스템 인증과 AS9100 항공우주 표준을 통과하여 열 관리를 위한 반도체 제조의 엄격한 요구 사항을 충족합니다.

협력 약속

Jincheng Graphite는 설계, 생산부터 판매 후까지 전체-프로세스 맞춤형 서비스를 제공하여{1}}소규모-배치 시험 생산 및 대규모{3}}맞춤화를 지원하여 짧은 배송 주기와 제어 가능한 비용을 보장합니다. 글로벌 물류 네트워크와 현지 서비스 팀을 통해 고객에게 효율적이고 안정적인 웨이퍼 흑연 캐리어 솔루션을 제공하여 반도체 제조 프로세스를 업그레이드하는 데 도움을 줍니다.

 

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