반도체 생산에 사용되는 탄소 흑연

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반도체 생산에 사용되는 탄소 흑연
정보
반도체 생산에 사용되는 탄소 흑연
탄소 흑연 재료 전문 공급업체인 Jincheng Graphite는 반도체 제조의 고온 공정, 열 관리 및 정밀 가공 요구 사항을 위해 특별히 설계된 고순도 및 전도율-탄소 흑연 제품을 제공합니다.- 강한 화학적 안정성, 높은 열전도도, 우수한 기계적 강도를 자랑하며 웨이퍼 에칭, 패키징 방열, 진공 장비 분야에 널리 사용됩니다.
핵심강점
고순도 및 화학적 안정성: 탄소 함량이 99.9% 이상이고 산 및 알칼리 부식에 강하며 반도체 제조의 극한 화학적 환경에 적합한 고순도-흑연 기판을 활용합니다.
뛰어난 열 전도성: 열 전도성은 150-300 W/m·K에 도달할 수 있어 웨이퍼 처리 시 열 분포가 고르지 않은 문제를 효과적으로 해결하고 공정 수율을 향상시킵니다.
제품 분류
웨이퍼 흑연 캐리어
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설명

반도체 생산에 사용되는 탄소 흑연

탄소 흑연 재료 전문 공급업체인 Jincheng Graphite는 반도체 제조의 고온 공정, 열 관리 및 정밀 가공 요구 사항을 위해 특별히 설계된 고순도 및 전도율-탄소 흑연 제품을 제공합니다.- 강한 화학적 안정성, 높은 열전도도, 우수한 기계적 강도를 자랑하며 웨이퍼 에칭, 패키징 방열, 진공 장비 분야에 널리 사용됩니다.

 

핵심강점

 

고순도 및 화학적 안정성

탄소 함량이 99.9% 이상이고 산 및 알칼리 부식에 강하며 반도체 제조의 극한 화학적 환경에 적합한 고순도 흑연 기판을 활용합니다.

뛰어난 열전도율

열전도율은 150-300W/m·K에 달할 수 있어 웨이퍼 가공 시 열 분포가 고르지 않은 문제를 효과적으로 해결하고 공정 수율을 향상시킬 수 있습니다.

높은 기계적 강도와 내마모성

소결 공정을 통해 강화되었으며 압축 강도가 30MPa 이상이며 고정밀 기계 가공 및 장기간-고온{3}}작업 요구 사항에 적합합니다.

응용 시나리오

 

웨이퍼 에칭 장비

고온-반응 챔버용 소재로 1000도 이상의 온도를 견딜 수 있어 열 응력으로 인한 웨이퍼 변형을 줄여줍니다.

포장 방열 시스템

탄소흑연 열전달 물질과 결합해 칩과 방열 기판 사이의 접촉 효율을 향상시켜 열저항을 0.05K/W 이하로 낮춘다.

진공 펌프 구성 요소

탄소 흑연의 낮은 마찰 특성을 활용하여 고진공 환경의 씰 및 베어링 부품에 적합합니다.

 

기술적인 매개변수

 

탄소 함량 99.9% 이상
열전도율 150 - 300 W/m·K(테스트 조건: 25도)
압축강도 30MPa 이상
작동 온도 범위 -200도 ~ 3000도
표면 처리 연마/코팅(맞춤형)

 

진청 흑연 품질 보증

Jincheng Graphite는 탄소 흑연 재료에 대한 20년 간의 연구 개발 경험을 바탕으로 특허받은 소결 기술과 나노{1}}복합 기술을 사용하여 전체 반도체 제조 공정에서 제품의 안정적인 성능을 보장합니다. ISO 9001 품질 시스템 인증과 AS9100 항공우주 표준 테스트를 통과하여 높은 청결도와 높은 신뢰성 시나리오에 대한 요구 사항을 충족합니다.

협력 약속

Jincheng Graphite는 소규모-배치 시험 생산과 대규모-대량 생산을 모두 지원하는 맞춤형 재료 솔루션을 제공하여 짧은 납품 주기와 제어 가능한 비용을 보장합니다. 글로벌 물류 네트워크와 현지 서비스 팀을 통해 고객에게 효율적이고 안정적인 통합 탄소 흑연 소재 서비스를 제공하여 반도체 제조 프로세스를 업그레이드하는 데 도움을 줍니다.

 

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