반도체 장비용 흑연 부싱

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정보
반도체 장비용 흑연 슬리브
Jincheng Graphite는 흑연 슬리브 전문 제조업체로서{0}}반도체 장비용 고온 내성 및 열 전도성이 높은 흑연 슬리브를 제공합니다. 이 슬리브는 고온-온도 반응 챔버 및 진공 장비용으로 특별히 설계되었으며 강력한 열 안정성, 내식성 및 긴 수명을 특징으로 합니다. 그들은 반도체 제조 산업에서 널리 사용됩니다.
핵심 이점
극한 온도 저항: 고순도-흑연(탄소 함량 99.99% 이상) 및 세라믹 복합 공정을 활용하여 온도 저항 범위는 -200도 ~ 3000도이며 반도체 장비의 고온 반응 환경에 적합합니다.
높은 열전도율: 다층 흑연 구조와 진공 챔버의 결합을 통해 열 저항이 0.05K/W로 감소되어 고온 가스의 균일한 분포를 보장하고-재료 변형을 유발하는 국부적 과열을 방지합니다.
제품 분류
웨이퍼 흑연 캐리어
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설명

반도체 장비용 흑연 슬리브

Jincheng Graphite는 흑연 슬리브 전문 제조업체로서{0}}반도체 장비용 고온 내성 및 열 전도성이 높은 흑연 슬리브를 제공합니다. 이 슬리브는 고온-온도 반응 챔버 및 진공 장비용으로 특별히 설계되었으며 강력한 열 안정성, 내식성 및 긴 수명을 특징으로 합니다. 그들은 반도체 제조 산업에서 널리 사용됩니다.

 

핵심 이점

 

극한의 온도 저항

고순도-흑연(탄소 함량 99.99% 이상) 및 세라믹 복합 공정을 활용하여 온도 저항 범위는 -200도 ~ 3000도이며 반도체 장비의 고온 반응 환경에 적합합니다.

높은 열전도율

다층 흑연 구조와 진공 챔버의 결합을 통해 열 저항이 0.05K/W로 감소되어 고온 가스의 균일한 분포가 보장되고{2}} 재료 변형을 유발하는 국부적인 과열을 방지합니다.

강한 화학적 안정성

내식성이 뛰어나 수소, 질소 등의 반도체 공정 가스에서 장기간 안정적으로 작동할 수 있어 장비 유지 관리 빈도가 줄어듭니다.

 

응용 시나리오

 

고온-온도 반응 챔버 장비

CVD, PVD 등 반도체 제조 공정에 사용되는 흑연 슬리브는 열을 고르게 전도해 공정 안정성과 수율을 향상시킵니다.

진공 환경 가열 시스템

반도체 웨이퍼의 건조 및 어닐링 공정 중에 흑연 슬리브는 균일한 열 분포를 제공하여 열 응력의 위험을 줄입니다.

고-출력 레이저 장비

고에너지-레이저 캐비티와 호환되며 흑연 슬리브를 통해 열을 빠르게 전도하여 장비의 안전한 작동을 보장합니다.

 

기술적인 매개변수

 

열전도율 250 - 400 W/m·K(프로세스 요구사항에 따라 맞춤설정 가능)
작동 온도 범위 -200도 ~ 3000도
적합한 가스 환경 수소, 질소, 아르곤 등 반도체 공정 가스
표면 처리 플라즈마 연마/코팅(맞춤형)

 

진청 흑연 품질 보증

20년간의 흑연 재료 연구 경험을 바탕으로 Jincheng Graphite는 특허받은 진공 복합 기술과 나노미터{1}}급 흑연 충전 기술을 채택하여 극한 조건에서 흑연 슬리브의 안정성을 보장합니다. ISO 9001 품질 시스템 및 AS9100 항공우주 표준에 의해 인증되었으며 높은 신뢰성의 애플리케이션 시나리오 요구사항을 충족합니다.-

협력 약속

Jincheng Graphite는 설계, 생산부터 판매 후까지 전체{0}}프로세스 맞춤형 서비스를 제공하며{1}}소규모-일괄 시험 생산 및 대규모-맞춤화를 지원합니다. 이는 짧은 배송 주기와 통제 가능한 비용을 보장합니다. 글로벌 물류 네트워크와 현지 서비스 팀을 통해 효율적이고 안정적인 반도체 장비용 흑연 슬리브 솔루션을 제공하여 고정밀 공정의-장기적이고 안정적인 운영을 달성하는 데 도움을 줍니다.-

 

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