반도체 흑연 균일 온도 플레이트

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반도체 흑연 균일 온도 플레이트
정보
반도체 흑연 열 확산기
Jincheng Graphite는 흑연 제품의 전문 소스 제조업체로서 반도체 제조 공정용으로 특별히 설계된 높은 열 전도성과 균일성 반도체 흑연 열 확산기를 제공합니다. 내열성, 내식성, 강한 열 안정성 등의 장점을 갖고 있어 웨이퍼 가공, 열 관리 등 고급-분야에서 널리 사용됩니다.
핵심 이점
효율적인 열 전도: 고순도-흑연 기판을 활용하고 나노 규모의 열 코팅 기술을 결합하여 열 저항을 30% 이상 줄여 웨이퍼 표면 온도를 ±2도 이내로 균일하게 유지합니다.
극한의 환경 적응성: 고온 진공 소결 기술을 통해 균일 온도 플레이트는 -200도에서 1200도까지의 온도에서 안정적으로 작동할 수 있어 반도체 제조의 고온 에칭 및 저온 증착과 같은 복잡한 공정 요구 사항을 충족할 수 있습니다.-
제품 분류
웨이퍼 흑연 캐리어
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설명

반도체 흑연 열 확산기

Jincheng Graphite는 흑연 제품의 전문 소스 제조업체로서 반도체 제조 공정을 위해 특별히 설계된 높은 열 전도성과 균일성 반도체 흑연 열 확산기를 제공합니다. 내열성, 내식성, 강한 열 안정성 등의 장점을 갖고 있어 웨이퍼 가공, 열 관리 등 고급-분야에서 널리 사용됩니다.

 

핵심 이점

 

효율적인 열전도

고순도-흑연 기판을 활용하고 나노 스케일 열 코팅 기술을 결합하여 열 저항을 30% 이상 줄여 웨이퍼 표면 온도를 ±2도 이내로 균일하게 유지합니다.

극도의 환경 적응성

고온 진공 소결 기술을 통해 균일 온도 플레이트는 -200도에서 1200도까지의 온도에서 안정적으로 작동할 수 있어 반도체 제조의 고온 에칭 및 저온 증착과 같은 복잡한 공정 요구 사항을 충족할 수 있습니다.-

맞춤형 디자인

Jin Cheng Graphite는 재료 선택부터 구조 최적화까지 전체{0}} 프로세스 서비스를 제공하고 0.1~5mm 두께와 크기 맞춤화를 지원하며 8인치~12인치 웨이퍼 처리 장비에 적합합니다.

 

응용 시나리오

 

반도체 흑연 균일 온도 플레이트는 웨이퍼 연마, 화학기계적 연마(CMP), 이온 주입, 열압착 등 주요 공정 단계에서 널리 사용됩니다. 높은 열 전도성과 낮은 열 응력 특성은 웨이퍼의 열 팽창 불균일로 인한 수율 감소 문제를 효과적으로 해결하여 반도체 장치의 수율을 99.5% 이상으로 높이는 데 도움을 줍니다.

 

기술 사양

 

열전도율 150 W/m·K 이상(상온)
열팽창계수 3.5 × 10⁻⁶/도 이하
표면 거칠기 Ra 0.6μm 이하
내식성 HF, HNO₃ 등 강산성 부식 테스트 통과
기계적 강도 압축강도 80 MPa 이상

 

진청 흑연 품질 보증

Jincheng Graphite는 40년 동안 흑연 제품 분야에 깊이 관여해 왔습니다. 저온 소결 기술 및 ISO9001 품질 관리 시스템 인증에 대한 자체적인 독립적인 지적재산권을 보유하고 있습니다.{2}} 원자재 정제, 성형, 압착부터 고온 소결까지 전체 공정을 엄격하게 제어하여 제품이 청정도(ISO 4 등급) 및 열 안정성(±1도)에 대한 반도체 산업의 엄격한 요구 사항을 충족하도록 보장합니다.

협력 약속

Jincheng Graphite는 무료 샘플 테스트, 72{2}}시간 기술 상담 응답을 제공하고 소규모 배치 시험 생산 및 맞춤형 개발을 지원합니다. 글로벌 반도체 기업에 비용 효율적인 열 관리 솔루션을 제공하기 위해 최선을 다하고 있습니다. 전문적인 기술과 믿을 수 있는 품질, 신속한 납품으로 반도체 제조 열관리 분야의 핵심 파트너로 자리매김했습니다.

 

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